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stage=102时所有tool的chamber1
stage=102时所有tool的chamber2
stage=102时所有tool的chamber3
stage=102时所有tool的chamber4
這是stage=15時，進過tool時wafer的良率。可以看出ToolB5（淺紫色線）良率是明顯偏低的。
這是stage=161時，進過tool時wafer的良率。可以看出ToolG18（紅色線）良率是明顯偏低的。
這是stage=231時，進過tool時wafer的良率。不能明顯看出ToolH1（紅色線）良率偏低。
這是stage=230時，進過tool時wafer的良率。不能明顯看出ToolN2（紅色線）良率偏低。
stage=176的时候比较所有toolE1的chamber
stage=176的时候比较所有toolE2的chamber
stage=176的时候比较所有toolE3的chamber
stage=176的时候比较所有toolE4的chamber
stage=176的时候比较所有toolE5的chamber
stage=176的时候比较所有toolE6的chamber
stage=176的时候比较所有toolE7的chamber
stage=176的时候比较所有toolE8的chamber
stage=176的时候比较所有toolE9的chamber
stage=176的时候比较所有toolE10的chamber
這是stage=230時，進過tool時wafer的良率。不能明顯看出ToolN2（紅色線）良率偏低。
這是stage=102時，進過tool的chamber_time與wafer的良率間的關係。
無法明顯看出chamber2_time與其他chamber_time的差別，所以從圖上無法確定chamber2_time的時間是否有對良率造成影響。
stage=183时所有tool的chamber1
stage=183时所有tool的chamber2
stage=183时所有tool的chamber3
stage=183时所有tool的chamber4
這是stage=183時，進過tool的chamber_time與wafer的良率間的關係。
無法明顯看出chamber2_time與其他chamber_time的差別，所以從圖上無法確定chamber2_time的時間是否有對良率造成影響。
stage=20时所有tool的chamber1
stage=20时所有tool的chamber2
stage=20时所有tool的chamber3
stage=20时所有tool的chamber4
這是stage=20時，進過tool的chamber_time與wafer的良率間的關係。
無法明顯看出chamber2_time與其他chamber_time的差別，所以從圖上無法確定chamber2_time的時間是否有對良率造成影響。
stage=179时所有tool的chamber1
stage=179时所有tool的chamber2
stage=179时所有tool的chamber3
stage=179时所有tool的chamber4
這是stage=179時，進過tool的chamber_time與wafer的良率間的關係。
無法明顯看出chamber2_time與其他chamber_time的差別，所以從圖上無法確定chamber2_time的時間是否有對良率造成影響。
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